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薄膜衬底

SiO2单晶水晶片是一种极好的基片,用于无线通讯工业的微波滤波器。

  1. 主要性能参数
  1. 生长方法
  1. 水热法
  1. 晶体结构
  1. 六方
  1. 晶格常数
  1. a=4.914Å    c=5.405 Å
  1. 熔点(℃)
  1. 1610℃(相转变点:573.1℃)
  1. 密度
  1. 2.684g/cm3
  1. 硬度
  1. 7(mohs)
  1. 热熔
  1. 0.18cal/gm
  1. 热导率
  1. 0.0033cal/cm℃
  1. 热电常数
  1. 1200uv/℃(300℃)
  1. 折射率
  1. 1.544
  1. 热膨胀系数
  1. α11:13.71×106/ ℃ α33:7.48×106 /℃
  1. Q值
  1. 1.8×106 min
  1. 声速、声表级
  1. 3160(m/sec)
  1. 频率常数
  1. 1661(kHz/mm)
  1. 压电偶合
  1. K2(%) BAW: 0.65 SAW: 0.14
  1. 晶向
  1. Y、X或Z切,在30º~42.75 º ±5分范围内旋转任意值
  2. 主定位边:根据客户要求定方向±30分
  3. 次定位边:根据客户要求定方向
  4. 籽 晶:位于中心,宽度<5mm,高度>66mm
  1. 抛光面
  1. 外延抛光:单抛或双抛Ra<10Å
  2. 工作区域:基片直径-3mm
  3. 弯 曲 度:Φ3″<20um,Φ4″<30um
  4. 工作区域无崩边,在边缘,崩边宽度<0.5mm
  5. 坑和划痕:每片<3,每100片<20
  1. 标准厚度
  1. 0.5mm±0.05mm TTV<5um
  1. 标准直径
  1. Φ2″(50.8mm)、Φ3″(76.2mm)、Φ4″(100mm)±0.2mm
  2. 主定位边:22±1.5mm (Φ3″) 32±3.0 (Φ4″)
  3. 次定位边:10mm±1.5mm
0551-63468281
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