氧化镁（MgO）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中，是极好的单晶基片，广泛应用于制备铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2"及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件，具有很大的现实及潜在应用市场，本公司可采用化学机械抛光制备出高品质原子级表面的基片。 
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氧化镁（MgO）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中，是极好的单晶基片，广泛应用于制备铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2"及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件，具有很大的现实及潜在应用市场，本公司可采用化学机械抛光制备出高品质原子级表面的基片。 | 主要性能参数 | |
| 生长方法 | 弧熔法 |
| 晶体结构 | 立方 |
| 晶格常数 | a=4.130 Å |
| 熔点（℃） | 2800 |
| 纯度 | 99.95% |
| 密度（g/cm3） | 3.58 |
| 硬度 | 5.5（mohs） |
| 热膨胀系数（/℃） | 11.2x10-6 |
| 晶体解理面 | <100> |
| 光学透过 | >90%（200~400nm），>98%（500~1000nm） |
| 介电常数 | ε= 9.65 |
| 热导率（卡／度 厘米 秒） | 0.14 300°K |
| 尺寸 | 10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20， |
| dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm | |
| 厚度 | 0.5mm，1.0mm |
| 抛光 | 单抛、双抛或细磨 |
| 晶向 | <001>±0.5º |
| 晶面定向精度: | ±0.5° |
| 边缘定向精度: | 2°（特殊要求可达1°以内） |
| 斜切晶片 | 可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角1°－45°）的晶片 |
| Ra: | ≤5Å（5µm×5µm） |
| 主要特点 | 由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 |
| 主要用途 | 用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等,也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。 |
| 包装 | 100级洁净袋，1000级超净室 |
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